SCULPTOR SILICONE PAD CLEANSER 50 г – засіб для чищення силіконових валиків
Професійний порошок для чищення для швидкого та дбайливого видалення клею, пігментів та бруду з силіконового валика. Також підходить для очищення пензлів від пасти для мапування.
Детальний опис продукту
ЗАСІБ ДЛЯ ЧИЩЕННЯ СИЛІКОНОВИХ ПОДУШОК SCULPTOR – професійний засіб для чищення силіконових плойок
ЗАСІБ ДЛЯ ЧИЩЕННЯ СИЛІКОНОВИХ ПОДУШОК SCULPTOR – це професійний засіб для чищення, призначений для ретельного очищення силіконових плойок, що використовуються для ламінування вій. Він ефективно видаляє залишки клею, пігменти та інші забруднення, не пошкоджуючи поверхню силіконових пристроїв та не скорочуючи термін їх служби.
Порошок легко розчиняється в теплій воді та створює ефективний розчин для чищення приблизно за 15 хвилин. Завдяки економному дозуванню, упаковки 50 г вистачає на понад 25 циклів миття. Продукт також можна використовувати для очищення пензликів для брів від залишків пасти для мапування.
Вироблено в Південній Кореї.
Основні переваги
- Ефективно видаляє клей, пігменти та інші забруднення
- Делікатний до силіконових бігуді
- Легке приготування розчину для очищення
- Підходить для очищення пензлів
- Економічне дозування
- Ідеально підходить для професійних салонів
Використання
- Розчиніть 1-2 мірні ложки порошку у 200 мл теплої води (40-45 °C).
- Помістіть силіконові бігуді або щітки в розчин приблизно на 15 хвилин.
- Змийте чистою водою та дайте ретельно висохнути.
Характеристики
- Бренд: SCULPTOR
- Назва: ЗАСІБ ДЛЯ ОЧИЩЕННЯ СИЛІКОНОВИХ ПОДУШОК
- Вага: 50 г
- Країна виробник: Південна Корея
- Призначення: очищення силіконових бігуді та косметичних пензликів
Склад (INCI)
КАРБОНАТ НАТРІЮ, ХЛОРИД НАТРІЮ, ЛАУРИЛСУЛЬФОАЦЕТАТ НАТРІЮ.
Попередження
Тільки для професійного використання. Зберігати в сухому, недоступному для дітей місці. Уникайте контакту з очима.
Рейтинг продукту
Будьте першим, хто опублікує статтю в цьому пункті!
Оцінки можуть ставити лише зареєстровані користувачі. Будь ласка, увійдіть або зареєструйтесь.
Обговорення
Будьте першим, хто опублікує статтю в цьому пункті!



